电感耦合放电模式转换对等离子体密度均匀性影响的实验剖析.docx

电感耦合放电模式转换对等离子体密度均匀性影响的实验剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

电感耦合放电（InductivelyCoupledDischarge，简称ICD）作为一种重要的等离子体产生方式，在众多领域都展现出了独特的应用价值，已成为现代工业和科学研究中的关键技术之一。在半导体制造领域，随着芯片集成度的不断提高，对刻蚀工艺的精度和均匀性提出了前所未有的要求，电感耦合等离子体刻蚀（ICPEtching）凭借其能够精确控制刻蚀过程、改善工艺均匀性以及提高刻蚀深度和侧壁垂直度等优势，成为了芯片制造过程中不可或缺的一环，对推动半导体产业向更小尺寸、更高性能方向发展起到了关键作用。