T/CIRAXXXXX—2026
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堆照同位素生产设施洁净设计技术要求
1范围
本文件规定了堆照同位素生产设施中有医药工业洁净要求的工业厂房的总体设计基本要求,主要包括厂址选择、总平面布置、工艺、建筑、空气净化、辐射安全、仪控系统以及公用工程系统等方面。
本文件适用于堆照同位素生产设施中有洁净厂房的设计,其它同位素生产设施也可参照执行。
2规范性引用文件
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文件,仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB11930《操作非密封源的辐射防护
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