宣贯培训(2026年)《十五五：应对EUV时代，下一代光刻技术与配套材料研发升温》.pptxVIP

;目录;;;;;;;;;;;;;;;;;;掩模薄膜的“生死时速”：如何在6kA高能光子轰击下实现高透射率与长寿命？

EUV掩模薄膜是悬挂在掩模上方约毫米级高度的极薄隔膜，其核心使命是保护掩模图案免受颗粒污染。然而，它必须直面能量高达6keV以上的EUV光子以及扫描时产生的二次电子、热载流子的持续轰击。这对薄膜材料提出了近乎苛刻的要求：对EUV光的吸收率必须极低（透射率90%），同时具备足够的机械强度以抵御高速气体冲洗，且能在高强度辐射下保持化学惰性。专家深度剖析认为，目前基于多晶硅的薄膜虽已商用，但其透射率和寿命难以满足High-NA时代的需求。下一代材料如钼硅合金、钇