CN112242321B 处理液释放喷嘴、喷嘴臂、基片处理装置和基片处理方法 (东京毅力科创株式会社).docxVIP

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  • 2026-04-01 发布于山西
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CN112242321B 处理液释放喷嘴、喷嘴臂、基片处理装置和基片处理方法 (东京毅力科创株式会社).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN112242321B

(45)授权公告日2025.07.15

(21)申请号202010673489.4

(22)申请日2020.07.14

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN112242321A

(43)申请公布日2021.01.19

(30)优先权数据

2019-1311922019.07.16JP

2020-0937732020.05.28JP

(73)专利权人东京毅力科创株式会社地址日本东京都

(72)发明人天野嘉文相浦一博植木达博

(74)专利代理机构北京尚诚知

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