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集成电路布图设计保护条例

第一条为保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术创新，促进集成电路产业发展，根据国家法律体系框架及相关立法原则，结合集成电路布图设计保护实践需求，制定本规定。

第二条本规定所称集成电路布图设计（以下简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的多个元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。本规定所称集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的多个元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。本规定所称集成电路产品，是指包含集成电路的最终产品或者中间产品。

第三条受本规定保护的布图设计，应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时，该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的独创性要求。

第四条中国自然人、法人或者非法人组织创作的布图设计，依照本规定享有专有权。外国人创作的布图设计，首先在中国境内投入商业利用的，依照本规定享有专有权。外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者共同参加有关国际条约的，依照本规定享有专有权。

第五条布图设计专有权属于布图设计创作者，本规定另