CN114481085B 气相沉积掩模和使用气相沉积掩模制造装置的方法 (佳能株式会社).docxVIP

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  • 2026-04-06 发布于山西
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CN114481085B 气相沉积掩模和使用气相沉积掩模制造装置的方法 (佳能株式会社).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN114481085B

(45)授权公告日2025.05.02

(21)申请号202111246758.X

(22)申请日2021.10.26

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN114481085A

(43)申请公布日2022.05.13

(30)优先权数据

2020-1801702020.10.28JP

(73)专利权人佳能株式会社

地址日本东京都大田区下丸子3丁目30番2

(72)发明人渡边信一郎矢岛孝博齐藤达也内田达朗

(74)专利代理机构北京魏启学律师事务所1139

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