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原子层沉积（ALD）构筑光子结构仿生：原理、应用与挑战

一、引言

1.1研究背景与意义

原子层沉积（AtomicLayerDeposition，ALD）技术作为一种先进的薄膜制备方法，近年来在材料科学领域得到了广泛的关注与应用。ALD技术的核心优势在于其能够以原子级别的精度，在基底表面逐层沉积薄膜，实现对薄膜厚度、成分和结构的精确控制。这种精确控制能力使得ALD技术在制备具有特殊功能的材料和器件时具有独特的优势，例如在半导体器件制造中，ALD技术可用于制备高介电常数栅介质层，有效提高器件的性能和降低功耗。此外，ALD技术还具有出色的保形性，能够在复杂的三维结构表面均匀地沉积薄