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基于高斯泼溅的辐射场变形方法研究

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基于高斯泼溅的辐射场变形方法研究

摘要:随着计算机图形学的发展,辐射场在虚拟现实、影视制作等领域得到了广泛的应用。然而,由于现实场景中光线传播的复杂性和不确定性,如何对辐射场进行有效的变形处理成为了一个重要问题。本文提出了一种基于高斯泼溅的辐射场变形方法。该方法通过模拟光线在高斯分布下的泼溅过程,实现辐射场的局部变形。实验结果表明,该方法能够有效地对辐射场进行变形,且具有较高的精度和稳定性。

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