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CN119322432B 基于多个光刻模型的光学临近效应修正方法、装置、介质及程序产品 （华芯程(杭州)科技有限公司）.docxVIP

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  • 2026-04-13 发布于山西
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CN119322432B 基于多个光刻模型的光学临近效应修正方法、装置、介质及程序产品 （华芯程(杭州)科技有限公司）.docx

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利

    (10)授权公告号CN119322432B

    (45)授权公告日2025.05.23

    (21)申请号202411867039.3

    (22)申请日2024.12.18

    (65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN119322432A

    (43)申请公布日2025.01.17

    (73)专利权人华芯程（杭州）科技有限公司

    地址311100浙江省杭州市余杭区良渚街

    道网周路99号1幢22层2208室

    (72)发明人姚军黄光遥

    (74)专利代理机构上海光华专利事务所(普通合伙)31219

    专利代理师倪静

    (51)Int.C

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