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- 2026-04-15 发布于云南
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;目录;;位移损伤效应本质揭秘:为何传统电参数测试发现时器件已“回天乏术”?;;三大趋势之二:宽禁带半导体(SiC、GaN)位移损伤测试新方法将倒逼标准修订;三大趋势之三:原位实时监测技术取代离线间断测试,重新定义“试验过程”合规边界;;;;指标三:暗电流增量——不是所有暗电流都叫位移损伤,热激发成分如何剥离?;
标准对垂直结构功率器件(如IGBT、MOSFET)规定导通电阻漂移≤15%,对横向结构器件(如LDMOS)允许≤25%。根本原因:垂直结构电流路径贯穿整个外延层,少数缺陷即造成显著影响。测试时需区分“体电阻”与“接触电阻”的贡献。标准强制要求采用开尔文四线法,
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