2026光刻机国产化突破路径与供应链安全研究报告
目录
TOC\o1-3\h\z\u摘要 3
一、光刻机国产化战略背景与2026目标 5
1.1全球半导体格局重塑下的国产化紧迫性 5
1.22026年关键节点目标与里程碑设定 8
二、光刻机技术路线全景与国产化现状 12
2.1DUV光刻机(ArF/KrF)技术成熟度与国产化率 12
2.2EUV光刻机核心模块突破进展与差距 14
2.3国产主要厂商技术布局与研发进展 18
三、核心光学系统国产化突破路径 20
3.1光源系统(准分子激光、极紫外光源) 20
3.2投
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