2026年半导体芯片制造工职业技能考试题含答案.docx

2026年半导体芯片制造工职业技能考试题(含答案)

一、单项选择题（共20题，每题2分，满分40分）

1.光刻工艺中，以下哪种光源的分辨率最高？()

A.紫外光（UV）

B.深紫外光（DUV）

C.极紫外光（EUV）

D.可见光

答案：C

解析：极紫外光（EUV）的波长仅为13.5nm，远低于深紫外光的193nm和紫外光的365nm。根据光刻分辨率公式，波长越短，分辨率越高，因此EUV是当前可实现7nm及以下制程图案转移的最高分辨率光刻光源。

2.以下哪种工艺是用于在晶圆表面形成导电或绝缘薄膜的核心工序？()

A.离子注入

B.化学气相沉积（CVD）

C.湿法蚀刻

D.