CN120111957A 改善fdsoi器件外延层缺陷的方法 (上海华力集成电路制造有限公司).pdfVIP

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  • 2026-04-22 发布于重庆
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CN120111957A 改善fdsoi器件外延层缺陷的方法 (上海华力集成电路制造有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN120111957A

(43)申请公布日2025.06.06

(21)申请号202510214467.4

(22)申请日2025.02.25

(71)申请人上海华力集成电路制造有限公司

地址201203上海市浦东新区康桥东路298

号1幢1060室

(72)发明人彭利

(74)专利代理机构上海浦一知识产权代理有限

公司31211

专利代理师刘昌荣

(51)Int.Cl.

H10D86/01(2025.01)

H10D86/00(2025.01)

权利要求书1页说明书2页附图3页

(54)发明名称

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