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CN119439611A 半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法 （三星Sdi株式会社）.docxVIP

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  • 2026-04-24 发布于山西
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CN119439611A 半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法 （三星Sdi株式会社）.docx

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN119439611A

    (43)申请公布日2025.02.14

    (21)申请号202410874416.X

    (22)申请日2024.07.02

    (30)优先权数据

    10-2023-01024002023.08.04KR

    (71)申请人三星SDI株式会社

    地址韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号

    (72)发明人禹昌秀林雪熙李旻映金智敏

    (74)专利代理机构北京同立钧成知识产权代理

    有限公司11205

    专利代理师马雯雯臧建明

    (51)Int.Cl.

    G03F7/004

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