常压微波等离子体高效降解四氟化碳的关键技术与机理研究.docx

常压微波等离子体高效降解四氟化碳的关键技术与机理研究

一、绪论

1.1研究背景与意义

1.1.1研究背景

随着现代工业的飞速发展，各种化学品在生产过程中被广泛使用，四氟化碳（CF4）便是其中之一。四氟化碳，又称为四氟甲烷，在常温常压下为无色无味的气体，化学性质极为稳定，具有高键能、低表面张力等特性。这些优良特性使其在多个工业领域中发挥着不可或缺的作用。在半导体制造领域，四氟化碳是用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯气及与高纯氧气的混合体，广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻，对于制造高精度的芯片和集成电路起着关键作用；在涂层制备过程中，四氟化碳可参与反应形成具有特殊性能