CN119694921A 晶圆膜厚测量不确定度的确定方法及设备 （北京特思迪半导体设备有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119694921A

(43)申请公布日2025.03.25

(21)申请号202510208526.7

(22)申请日2025.02.25

(71)申请人北京特思迪半导体设备有限公司

地址101300北京市顺义区杜杨北街3号院

6号楼（顺创）

(72)发明人周惠言蒋继乐

(51)Int.Cl.

H01L21/66(2006.01)

H01L21/67(2006.01)

权利要求书2页说明书10页附图1页

(54)发明名称

晶圆膜厚测量不确定度的确定方法及设备

(57)摘要

本发明提供一种晶圆膜厚测量不确定度的

确定方法及设备