原创力文档2021长鑫存储实习生转正在线考核试题及标准答案
一、单项选择题（每题2分，共10题）
1.半导体芯片制造中，光刻技术主要用于（）。
A.刻蚀图案
B.掺杂
C.沉积薄膜
D.晶圆清洗
2.以下哪种存储技术的读写速度最快？（）
A.DRAM
B.NANDFlash
C.NORFlash
D.SRAM
3.长鑫存储主要生产的存储产品是（）。
A.硬盘
B.DRAM
C.SSD
D.U盘
4.在半导体制造过程中，以下哪个步骤可以改变半导体材料的电学性质？（）
A.光刻
B.刻蚀
C.掺杂
D.薄膜沉积
5.以下关于摩尔定律的说法正
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