液晶显示器设计理论.pptVIP

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  • 2026-04-28 发布于北京
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液晶显示器设计理论(2);一、液晶显示器制造具体工艺过程示意;图2涂光刻胶;图3曝光;图4显影;图5刻蚀去膜(去光刻胶);图8磨擦取向;空盒制作图9丝印边框及银点;图10俯视图;图11喷衬垫料;图12对位压合;图13固化;图14标盒;液晶灌注图15切割与裂片;图16液晶灌注;图17封口;成品检测与包装图18贴偏振片;二、设计与制版;新样品的制作流程

;2、外观图的设计内容主要包括;外观主视图、侧视图;;3、掩膜版的设计;五张版:LCD生产工艺中几个比较重要的工序分为光刻、PI涂覆、摩擦、丝印成盒等几个工序。这几个工序中都要用到相应的掩模版。

光刻掩模版:光刻工序是在ITO玻璃上刻出电极图形,其中曝光中所用的掩膜版(称为菲林版)需要设计,因为LCD盒由上、下两层基板组成,所以有上基板光刻掩膜版和下基板光刻掩膜版。需要设计Maskd和Masku两张光刻版。

取向剂掩模版:PI涂覆方式有几种,但目前较流行的是选择涂覆。选择涂覆要用一种凸版,制作凸版需要菲林胶片,这种菲林胶片也需要依LCD而设计。

丝网版:丝印成盒工序需要丝网印刷,丝网印刷所用的丝网制作,也需要两张菲林胶片,一张是印封边框的Seal版,另一张是印导电点的Dot版;菲林版的制作:

;版图设计

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