掩膜版技术研发中心项目可行性研究报告.docx

掩膜版技术研发中心项目可行性研究报告

第一章项目总论

项目名称及建设性质

项目名称

掩膜版技术研发中心项目

项目建设性质

本项目属于新建高新技术研发项目，专注于掩膜版技术的研发、创新及相关技术成果转化，旨在突破掩膜版领域关键核心技术，提升我国在半导体及显示产业上游关键材料领域的自主可控能力。

项目占地及用地指标

本项目规划总用地面积30000平方米（折合约45亩），建筑物基底占地面积18000平方米；项目规划总建筑面积42000平方米，其中研发实验楼面积25000平方米、中试车间面积10000平方米、配套办公及服务用房面积5000平方米、地下车库及设备用房面积2000平方米；绿化面积450