CN119480583A 一种输能窗及输能窗的制作方法 (北京真空电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十二研究所)).docxVIP

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  • 2026-05-06 发布于山西
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CN119480583A 一种输能窗及输能窗的制作方法 (北京真空电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十二研究所)).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119480583A

(43)申请公布日2025.02.18

(21)申请号202510065603.8

(22)申请日2025.01.16

(71)申请人北京真空电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十二研究所)

地址100015北京市朝阳区酒仙桥路13号

(72)发明人吴诗昊张亦弛曾旭

(74)专利代理机构北京正理专利代理有限公司11257

专利代理师张雪梅王喆

(51)Int.Cl.

H01J23/36(2006.01)

H01J23/18(2006.01)

H01J9/00(2006.01)

H01P1/08(2006.01)

H01P11/00(2006.01)

H01P7/00(2006.01)

权利要求书1页说明书5页附图4页

(54)发明名称

一种输能窗及输能窗的制作方法

(57)摘要

CN119480583A本发明实施方式公开了一种输能窗及输能窗的制作方法,所述输能窗包括两块介质基板,以及夹设固定于两块介质基板间的电磁共振单元;所述电磁共振单元包括若干呈阵列排布的谐振单元;所述谐振单元包括具有第一开口的第一金属圆环,以及位于第一金属圆环内的具有第二开口的第二金属圆环。本发明有效解决了现有输能窗在设计难度大、工艺复杂和

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