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CN119503820A 二氧化硅粒子及其制造方法、硅溶胶、研磨组合物、研磨方法、半导体晶片的制造方法和半导体器件的制造方法 （三菱化学株式会社）.docxVIP

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  • 2026-05-07 发布于山西
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CN119503820A 二氧化硅粒子及其制造方法、硅溶胶、研磨组合物、研磨方法、半导体晶片的制造方法和半导体器件的制造方法 （三菱化学株式会社）.docx

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN119503820A

    (43)申请公布日2025.02.25

    (21)申请号202411697538.2

    (22)申请日2020.02.19

    (30)优先权数据

    2019-0291422019.02.21JP

    2019-0291432019.02.21JP

    (62)分案原申请数据

    202080014939.72020.02.19

    (71)申请人三菱化学株式会社

    地址日本

    (72)发明人京谷智裕出岛荣治住谷直子加藤友宽泽井毅

    (74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限

    公司1

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