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半导体原料制备工专项题库.docx

半导体原料制备工专项题库.docx

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    半导体原料制备工专项题库

    一、单选题（只有一个正确答案）

    1.半导体原料制备中，高纯度多晶硅通常采用哪种方法生产？

    A.硅酸二钙还原法

    B.三氯氢硅氢还原法

    C.硅铁还原法

    答案：B

    解析：三氯氢硅氢还原法是目前主流的生产多晶硅的方法。

    2.多晶硅生产中，三氯氢硅（STC）水解反应的目的是？

    A.生成四氯化硅

    B.分离杂质并制备三氯氢硅

    C.生成高纯多晶硅

    答案：C

    解析：三氯氢硅（STC）水解反应生成的产物（SiHCl3）经提纯后还原可得到多晶硅。

    3.半导体级多晶硅的杂质含量要求通常在哪个量级？

    A.百分之几（%）

    B.

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