1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内外标准规范

CN120119232A 一种有效降低电离室壁上氚的吸附和累积的方法 （中国工程物理研究院材料研究所）.pdfVIP

  • 0
  • 0
  • 约6.07千字
  • 约 6页
  • 2026-05-11 发布于重庆
  • 举报

CN120119232A 一种有效降低电离室壁上氚的吸附和累积的方法 （中国工程物理研究院材料研究所）.pdf

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN120119232A

    (43)申请公布日2025.06.10

    (21)申请号202510284010.0

    (22)申请日2025.03.11

    (71)申请人中国工程物理研究院材料研究所

    地址621700四川省绵阳市江油市华丰新

    村9号

    (72)发明人杨昊崴石岩方雯徐赐刚

    赵一英杨帆宋江锋陈长安

    赵陈

    (74)专利代理机构成都华风专利事务所(普通

    合伙)51223

    专利代理师张巨箭

    (51)Int.Cl.

    C23C16/515(2006.01)

    权利要求书1页说明书3

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >