《GBT+14847-2025重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的测试+红外反射法》学习与解读.pptxVIP

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  • 2026-05-09 发布于福建
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《GBT+14847-2025重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的测试+红外反射法》学习与解读.pptx

《GB/T14847-2025重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的测试红外反射法》学习与解读

目录02技术背景01标准概述03测试原理04测试方法步骤05应用与案例06解读与总结

标准概述01

标准名称与范围技术边界限定标准严格区分了红外反射法与其他测量方法(如椭偏仪、X射线衍射)的适用场景,强调其在非破坏性、高精度测量场景的专属性。适用范围界定该标准适用于半导体制造领域,特别是针对重掺杂衬底上生长的轻掺杂硅外延层厚度测量,覆盖了从研发到生产的全流程质量控制需求。标准全称解析GB/T14847-2025全称为《重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的测试红外反射法》,明确规定了采用红外反射技术测量

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