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2023长鑫存储工艺设备岗在线笔试历年真题及答案

一、单项选择题（每题2分，共20分）

1.在DRAM制造中，用于形成位线接触的最常用金属是

A.AlB.CuC.WD.Ti

2.12英寸晶圆在工艺设备中采用的标准晶圆盒（FOUP）材质为

A.不锈钢B.聚碳酸酯C.石英D.铝合金

3.下列哪一项不是PECVDSiN薄膜的主要工艺参数

A.RF功率B.腔体压力C.靶材功率D.气体流量比

4.在干法刻蚀中，用于提高各向异性的常用气体是

A.CF?B.O?C.ArD.HBr

5.设备PM中，对真空泵进行颗粒抽检时使用的标准测试片直径为

A.100mmB.150mmC.200mmD.300mm

6.当设备发生“ChamberPressureHigh”报警时，首先应检查

A.射频匹配器B.节流阀位置C.气体质量流量控制器D.干泵状态

7.在ALDAl?O?工艺中，最常用的铝前驱体是

A.TMAB.TEOSC.TEMAHD.TEB

8.设备OEE计算中，性能效率等于

A.实际节拍/理论节拍B.理论节拍/实际节拍C.计划时间/负荷时间D.合格品数