CN119538858A 一种pcell版图设计优化方法、装置、介质及设备 （中科芯云微电子科技有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119538858A

(43)申请公布日2025.02.28

(21)申请号202411592914.1

(22)申请日2024.11.08

(71)申请人中科芯云微电子科技有限公司

地址266101山东省青岛市崂山区松岭路

169号

(72)发明人陈岚陆仁杰刘晨光付晓东孙旺

(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限

公司11227

专利代理师朱税

(51)Int.Cl.

G06F30/398(2020.01)

G06F30/392(2020.01)

G06N3/02(2006.01)

G06F111/10(2020.01)

权利要求书3页说明书14页附图10页

(54)发明名称

一种PCELL版图设计优化方法、装置、介质及

设备

(57)摘要

CN119538858A本发明提供了一种PCELL版图设计优化方法、装置、介质及设备，应用于芯片设计技术领域。通过获取包含工艺参数和图形可调参数的PCELL，进行灵活的版图绘制，从而获得当前PCELL的版图结构参数。利用这些参数构建三维器件仿真模型，并采用人工神经网络算法创建仿真紧凑模型以描述器件的电气行为。利用PCELL和仿真紧凑模型验证三维器件仿真模型的电学性能趋势。在验证通过时，进一步验证