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多片式MOCVD系统温度控制：方法、挑战与创新实现

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的进程中，半导体材料作为关键基础，在光电子、半导体照明、集成电路等诸多领域发挥着不可或缺的作用，成为推动这些领域创新与进步的核心力量。多片式MOCVD（金属有机化合物化学气相淀积，MetalOrganicChemicalVaporDeposition）系统作为半导体材料制备的关键设备，能够同时处理多个样品，极大地提高了生产效率，在半导体产业中占据着举足轻重的地位。

MOCVD技术是在高温和气体氛围下，通过气态的金属有机化合物和其他气体反应物在衬底表面发生化学反应，从而在衬底上沉积