2026掩膜版:光刻蓝本乘风起,国产替换正当时.pdf

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目录

1.掩膜版:光刻工艺的蓝本,半导体生产制造的关键耗材3

2.大尺寸面板扩产与晶圆国产化双轮驱动,掩膜版市场需求加速释放8

3.公司介绍15

3.1清溢光电(688138.SH)15

3.2路维光电(688401.SH)16

3.3龙图光罩(688721.SH)17

4.投资建议18

5.风险提示18

插图目录

图1:掩膜版工作流程3

图2:

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