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- 2026-05-13 发布于山西
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(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN119546796A
(43)申请公布日2025.02.28
(21)申请号202380048510.3
(22)申请日2023.07.28
(30)优先权数据
2022-1267452022.08.09JP2023-1192512023.07.21JP
(85)PCT国际申请进入国家阶段日2024.12.19
(86)PCT国际申请的申请数据
PCT/JP2023/0278032023.07.28
(87)PCT国际申请的公布数据
WO2024/034435JA2024.02.15
(71)申请人JSWAFTY公司
地址日本神奈川
(72)发明人鸟居博典
(74)专利代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司11240
专利代理师纪秀凤
(51)Int.Cl.
C23C14/34(2006.01)
C23C14/06(2006.01)
C23C14/35(2006.01)
H01L21/203(2006.01)
权利要求书2页说明书14页附图8页
(54)发明名称
成膜装置以及成膜方法
(57)摘要
CN119546796A提高ECR等离子体技术的有用性。在成膜装置(1)中,在基板(SUB)的表面堆积通过使离子(构成ECR等离子体的离子)与安
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