CN119547181A 基板处理装置、半导体装置的制造方法及程序 (株式会社国际电气).docxVIP

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  • 2026-05-13 发布于山西
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CN119547181A 基板处理装置、半导体装置的制造方法及程序 (株式会社国际电气).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119547181A

(43)申请公布日2025.02.28

(21)申请号202280097901.X

(22)申请日2022.09.22

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.06

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2022/0353312022.09.22

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/062591JA2024.03.28

(71)申请人株式会社国际电气地址日本

(72)发明人藤野敏树岛田真一地藏久司石井昭纪油谷幸则葛西健

(74

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