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CMOS工艺下螺旋电感等效电路模型的深度剖析与创新构建

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代集成电路（IC）技术的演进历程中，互补金属氧化物半导体（CMOS）工艺凭借其独特优势，已成为集成电路制造的核心技术，在各类电子设备中广泛应用。从智能手机、平板电脑等移动终端，到高性能计算机、服务器等大型计算设备，再到物联网（IoT）设备、智能家居系统以及各种通信基站，CMOS工艺制造的集成电路无处不在。其低功耗特性，有效延长了移动设备的电池续航时间，满足了人们对便捷、持久移动办公和娱乐的需求；高集成度则使得芯片能够集成更多的功能模块，减小了设备体积，提升了系统性能和可靠性。

在射频（RF）电路领域