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第四章物理气相沉积(共40张课件).pptxVIP

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  • 2026-05-15 发布于江苏
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第四章物理气相沉积(共40张课件).pptx

    第四章物理气相沉积;第四章物理气相沉积技术;;★物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition,PVD），

    在真空条件下，利用热蒸发或辉光放电、弧光放电等物理过程，实现材料的迁移，并在零件基体表面上沉积形成涂层的技术。包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜。;第四章物理气相沉积技术;★气相沉积的基本过程;★真空技术基础

    1、真空度的单位

    真空：空间内压力低于一个大气压（1.013×105Pa）的气体状态。

    ;“真空度”和“压强”两个参量来衡量真空的程度

    表示真空状态下气体的稀薄程度，常用压力表示。国际

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