CN119586328A 微波等离子体发生装置、微波等离子体处理装置和微波等离子体处理方法 （株式会社阿比特技术）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119586328A

(43)申请公布日2025.03.07

(21)申请号202380055344.X

(22)申请日2023.07.26

(30)优先权数据

2022-1197712022.07.27JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.21

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0273182023.07.26

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/024817JA2024.02.01

(71)申请人株式会社阿比特技术地址日本东京都

(72)发明人中川清和宇佐美由久

(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所

11105

专利代理师韩锋

(51)Int.Cl.

H05H1/46(2006.01)

C23C16/511(2006.01)

H01L21/3065(2006.01)

H01L21/31(2006.01)

权利要求书3页说明书10页附图6页

(54)发明名称

微波等离子体发生装置、微波等离子体处理

装置和微波等离子体处理方法

(57)摘要

CN119586328A提供一种微波等离子体发生装置，不会在各等离子体发生器之间引起微波干扰，能够产生均匀的等离子体，并且不破坏其他微波发生源。微波等