CN119596645A 一种改变pi胶侧壁形貌的方法 （浙江光特科技有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119596645A

(43)申请公布日2025.03.11

(21)申请号202411783538.4

(22)申请日2024.12.06

(71)申请人浙江光特科技有限公司

地址312000浙江省绍兴市越城区群贤路

与中兴大道东南角一楼107室

(72)发明人石峰万远涛高思铖

(74)专利代理机构北京恒律知识产权代理有限

公司11416

专利代理师王祎晗

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

H01L21/027(2006.01)

G03F7/16(2006.01)

权利要求书1页说明书5页附图1页

(54)发明名称

一种改变PI胶侧壁形貌的方法

(57)摘要

CN119596645A本发明属于PI胶图形技术领域，具体涉及一种改变PI胶侧壁形貌的方法。本发明在晶圆表面涂覆PI胶，得到的涂覆有PI胶的晶圆进行烘烤，然后将所述带有PI胶层的晶圆进行有掩膜版的第一次曝光和无掩膜版的第二次曝光，所述第二次曝光的剂量占第一次曝光的剂量的百分比≤10％；最后将所述二次曝光后的晶圆进行显影，在晶圆表面得到PI胶图形。本发明提供的方法能够获得更加平缓的PI胶侧壁形貌和倾角，降低金属连线的应力集中，减少了金属断线和开路问题，提高了芯片的良率