基于光栅条纹投影成像的位移精密测量方法研究.pdf

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摘要

随着半导体芯片制造工艺的持续发展,纳米级精密测量技术逐渐成为亟待攻克的

科研瓶颈,光栅位移测量技术凭借其高精度与强鲁棒性等显著优势,在众多领域得到

了广泛的应用。传统光栅干涉位移测量系统多使用四裂相正弦波光电信号实现位移测

量,但该方法存在诸多不足,例如光路体积庞大、相位边缘解调误差较为显著以及细

分倍率受限等。为有效解决这些问题,本文对基于光栅条纹投影成像的位移精密测量

方法进行了研究,提出并设计了基于叠栅条纹投影成像的差动式光栅位移测量系统,

在兼具小型化的同时,可实现纳米级的位移测量

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