摘要
氧化锡(SnO)和氧化镓(GaO)作为重要的半导体材料,广泛应用于紫外探
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测、气体传感和光催化等领域。然而,在制备过程中难以避免产生氧空位(VO)等缺
陷。V的电子态、浓度和复合缺陷类型影响和制约着SnO和GaO薄膜探测器的性
O2
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