CN119596655A 用于激光直写的双向、双焦点刻写焦面定焦方法及装置 （浙江大学）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119596655A

(43)申请公布日2025.03.11

(21)申请号202510132486.2

(22)申请日2025.02.06

(71)申请人浙江大学

地址310058浙江省杭州市西湖区余杭塘

路866号

(72)发明人卢俊一刘天棋张力匡翠方温积森罗梦迪

(74)专利代理机构杭州求是专利事务所有限公司33200

专利代理师刘静

(51)Int.Cl.

G03F9/00(2006.01)

G03F7/20(2006.01)

权利要求书2页说明书6页附图3页

(54)发明名称

用于激光直写的双向、双焦点刻写焦面定焦

方法及装置

(57)摘要

CN119596655A本发明公开了用于激光直写的双向、双焦点刻写焦面定焦方法及装置，属于光学精密检测领域，包括：沿激光直写扫描路径方向，于刻写聚焦激光束前后对称位置处分别布置第一辅助定焦激光束和第二辅助定焦激光束；通过两个探测模块分别探测两个辅助定焦激光束的反射信号强度；在激光直写通过特定扫描方式进行预设图形刻写时，根据扫描路径方向的不同，将扫描方向分为正向扫描和反向扫描，在进行正向扫描和反向扫描时，探测该方向上刻写聚焦激光束前侧位置的辅助定焦激光束的反射信号强度，锁定刻写激光束的焦面。本发明通