CN119601446A 一种等离子体处理腔室的电弧的检测方法及检测装置 （中微半导体设备(上海)股份有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119601446A

(43)申请公布日2025.03.11

(21)申请号202311160730.3

(22)申请日2023.09.08

(71)申请人中微半导体设备（上海）股份有限公司

地址201201上海市浦东新区金桥出口加

工区（南区）泰华路188号

(72)发明人廖望杨宽

(74)专利代理机构上海元好知识产权代理有限

公司31323

专利代理师张双红张静洁

(51)Int.Cl.

H01J37/32(2006.01)

权利要求书2页说明书9页附图4页

(54)发明名称

一种等离子体处理腔室的电弧的检测方法

及检测装置

(57)摘要

CN119601446A本发明公开了一种等离子体处理腔室的电弧的检测方法及检测装置，所述方法包括：通过射频功率源向等离子体处理腔内输送射频功率，点燃等离子体处理腔内的反应气体形成等离子体；通过控制器实时获取取样时间段长度内，射频功率源的反射功率信号的方差和平均值；控制器根据反射功率信号的方差和平均值估算对应的取样时间段长度内反射功率信号的尖峰值的数量，反射功率信号的尖峰值的数量小于预设阈值时判定发生弧光放电。本发明实现了快速检测到有真空反应腔内电弧中的微弧，以便及时得知

CN119601446A

CN1196014