CN119604648A 用于确定拉晶器中硅熔体与反射器之间距离的非接触式系统及方法 （环球晶圆股份有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119604648A

(43)申请公布日2025.03.11

(21)申请号202380056378.0

(22)申请日2023.06.27

(30)优先权数据

63/357,7342022.07.01US

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.24

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/US2023/0263122023.06.27

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/006253EN2024.01.04

(71)申请人环球晶圆股份有限公司

地址中国台湾新竹市工业东二路8号(72)发明人R·J·菲利普斯

(74)专利代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司11287

专利代理师江葳

(51)Int.Cl.

C30B15/26(2006.01)

权利要求书3页说明书9页附图7页

(54)发明名称

用于确定拉晶器中硅熔体与反射器之间距

离的非接触式系统及方法

(57)摘要

CN119604648A一种测量系统包含目标对象，其通过拉晶器的开口至少部分可见。所述拉晶器具有：硅熔体，其位于坩埚中；及反射器，其界定晶体通过其提拉的中心通道。检测器阵列通过所述开口撷取光。所述检测器阵列指向所述拉晶器中的所述硅熔体的表面及所述目标对象，且激光