《光刻胶制备方法》编制说明.pdf

《光刻胶制备方法》(征求意见稿)

编制说明

一、工作简况

(一)任务来源

本文件由中国技术市场协会提出,经中国技术市场协会标准

化工作委员会批准,正式列入2026年团体标准制修订计划,标

准名称为《光刻胶制备方法》。

(二)项目背景

光刻胶作为半导体制造、平板显示、PCB印制线路板等领域

的核心关键电子化学品,其纯度、均匀性、稳定性、感光性能直

接决定芯片分辨率、线路精度、显示画质与产品良率,是制约我

国高端制造自主可控的

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