《光刻胶制备方法》(征求意见稿)
编制说明
一、工作简况
(一)任务来源
本文件由中国技术市场协会提出,经中国技术市场协会标准
化工作委员会批准,正式列入2026年团体标准制修订计划,标
准名称为《光刻胶制备方法》。
(二)项目背景
光刻胶作为半导体制造、平板显示、PCB印制线路板等领域
的核心关键电子化学品,其纯度、均匀性、稳定性、感光性能直
接决定芯片分辨率、线路精度、显示画质与产品良率,是制约我
国高端制造自主可控的
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