原创力文档《ArF光刻胶制备工艺技术要求》团体标准
征求意见稿编制说明
一、任务来源
ArF光刻胶作为深紫外光刻的核心材料，其制备工艺的演进始终围绕分辨率提升、缺陷控制及工艺兼
容性展开。近年来，树脂体系设计成为突破重点，通过分子结构优化显著提升了综合性能。例如，丙烯酸
酯类共聚物通过引入刚性环状基团增强耐刻蚀性，同时搭配柔性单体改善附着力与成膜稳定性。这种“刚
柔并济”的设计既抑制了显影过程中的图形形变，又通过内酯基团在碱性环境中的可控开闭环机制，实现
了溶解性与粘附力的动态平衡。
光
《ArF光刻胶制备工艺技术要求》团体标准
征求意见稿编制说明
一、任务来源
ArF光刻胶作为深紫外光刻的核心材料，其制备工艺的演进始终围绕分辨率提升、缺陷控制及工艺兼
容性展开。近年来，树脂体系设计成为突破重点，通过分子结构优化显著提升了综合性能。例如，丙烯酸
酯类共聚物通过引入刚性环状基团增强耐刻蚀性，同时搭配柔性单体改善附着力与成膜稳定性。这种“刚
柔并济”的设计既抑制了显影过程中的图形形变，又通过内酯基团在碱性环境中的可控开闭环机制，实现
了溶解性与粘附力的动态平衡。
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