CN119620295A 一种高剥出比模场适配器制作方法 （四川思创激光科技有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119620295A

(43)申请公布日2025.03.14

(21)申请号202510168739.1

(22)申请日2025.02.17

(71)申请人四川思创激光科技有限公司

地址610000四川省成都市高新区天府五

街200号1栋A区9楼904

(72)发明人杨翔文李琦梁小宝蔡典德

(74)专利代理机构成都市集智汇华知识产权代理事务所(普通合伙)51237

专利代理师冷洁李华

(51)Int.Cl.

G02B6/245(2006.01)

G02B6/255(2006.01)

G02B6/36(2006.01)

权利要求书1页说明书8页附图4页

(54)发明名称

一种高剥出比模场适配器制作方法

(57)摘要

CN119620295A本发明属于模场适配器制作技术领域，公开了一种高剥出比模场适配器制作方法，包括以下步骤：提供由光纤一和光纤二至少经过包层剥除、拉锥和熔接后形成的待封装光纤；将待封装光纤置入设有定位件的槽型外壳内，两个定位件分别位于槽型外壳的两端，定位件上设有沿轴向分布的定位槽，待封装光纤的两端分别置于一个定位件的定位槽内并被第一胶水覆盖固定；使用折射率大于光纤包层折射率的第二胶水将两个定位件之间的待封装光纤灌封。本发明降低