CMOSRFIC衬底噪声剖析:对VCO性能的影响与机制探究
一、引言
1.1研究背景
在现代通信技术飞速发展的浪潮中,无线通信已成为人们生活和工作中不可或缺的一部分。从智能手机、平板电脑到物联网设备,各种无线通信产品的广泛应用,推动了对高性能、低功耗、小型化的无线射频集成电路(RFIC)的需求不断增长。CMOS(互补金属氧化物半导体)技术由于其具有成本低、集成度高、功耗低等显著优势,在RFIC领域得到了越来越广泛的应用,成为了现代无线通信系统的核心技术之一。
在CMOSRFIC中,衬底噪声是一个不容忽视的关键问题。随着集成电路集成度的不断提高和特征尺寸的不断缩小,芯片内部各模块
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