CN119877055A 一种二次光刻图形化金属电镀工艺方法 (吉光半导体科技有限公司).pdfVIP

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  • 2026-05-29 发布于重庆
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CN119877055A 一种二次光刻图形化金属电镀工艺方法 (吉光半导体科技有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119877055A

(43)申请公布日2025.04.25

(21)申请号202411992630.1C25D5/02(2006.01)

C23C14/35(2006.01)

(22)申请日2024.12.31

C23C14/14(2006.01)

(71)申请人吉光半导体科技有限公司

地址130000吉林省长春市经济技术开发

区淄博路1783-16号

(72)发明人刘亚楠汪丽杰刘强郭英俊

彭航宇佟存柱

(74)专利代理机构长春

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