CN119626927A 处理装置及处理方法 （联芯集成电路制造(厦门)有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119626927A

(43)申请公布日2025.03.14

(21)申请号202311171034.2

(22)申请日2023.09.12

(71)申请人联芯集成电路制造（厦门）有限公司

地址361101福建省厦门市翔安区万家春

路899号

(72)发明人罗庆蜀蔡彦林璁哲谈文毅

(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所11105

专利代理师王锐

(51)Int.Cl.

H01L21/67(2006.01)

H01J37/32(2006.01)

权利要求书1页说明书5页附图4页

(54)发明名称

处理装置及处理方法

(57)摘要

CN119626927A本发明公开一种处理装置及处理方法，其中，处理装置包括腔室、晶圆载具、进气口以及电极。晶圆载具延伸至该腔室内。进气口设置在该腔室的侧壁上。

CN119626927A

CN119626927A权利要求书1/1页

2

1.一种处理装置，其特征在于，包括：

腔室；

晶圆载具，延伸设置在该腔室内；

至少一进气口，设置在该腔室的周围；以及

至少一电极，设置在该腔室上。

2.依据权利要求1所述的处理装置，其特征在