CN119472191A 掩模版曝光时的关键尺寸所用的曝光剂量补偿方法及系统 （佛山清溢微电子有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119472191A

(43)申请公布日2025.02.18

(21)申请号202411970994.X

(22)申请日2024.12.30

(71)申请人佛山清溢微电子有限公司

地址528200广东省佛山市南海区丹灶镇

建沙路东二区1号联东优谷北苑3座

102-13室（住所申报）

(72)发明人朱春辉陈勇钱松恒

(74)专利代理机构北京科家知识产权代理事务

所(普通合伙)11427

专利代理师王冠军

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

G03F1/68(2012.01)

G03F1/82(2012.01)