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2025年传感器设计与应用手册.docx

2025年传感器设计与应用手册.docx

    2025年传感器设计与应用手册

    第1章传感器技术演进与基础原理

    1.1光电器件与光电耦合技术

    在光电器件领域，硅基光电二极管是工业检测中最常用的组件，其外延生长深度需精确控制在1.5微米至2.0微米之间，以确保载流子复合效率最大化，典型响应速度可达100ns。光电耦合器利用光传输隔离信号，内部采用10kΩ至47kΩ的输入电阻与10kΩ至22kΩ的输出电阻配合，通过12V至36V的隔离电压实现安全传输，常用于工业控制回路。

    在可见光波段，CCD传感器具有12位量化精度和100万像素分辨率，其读出电路采用12位模数转换器，能将连续光强信

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