光刻机超精密光学系统，全球前3强生产商排名及市场份额（by QYResearch）.docxVIP

全球市场研究报告

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光刻机超精密光学系统产品简介

光刻机超精密光学系统是集光束整形、照明控制、图形缩小投影、像差校正、聚焦/对准支撑与长期稳定控制于一体的核心成像子系统，用于将掩模图形以纳米级精度转移到晶圆表面，是决定光刻机分辨率、成像质量、套刻精度和先进制程能力的关键核心。在光学系统中，最核心的部分为照明系统和投影光学系统。

光刻机超精密光学系统产品图片

来源：QYResearch机械及设备研究中心

光刻机超精密光学系统的任务是把掩模上的图形按既定倍率缩小、校正像差并稳定投射到晶圆表面。ASML将光刻机明确界定为一种投影系统，而蔡司则把EUV光学系统直接拆分为照明系统+投影光学器件两大部分。技术路径上，DUV主要依赖高精度透镜体系，EUV则因13.5nm光会被空气和大多数材料强烈吸收，必须在真空中采用多层反射镜体系；这使该行业天然具有“高光学精度+高机电耦合+高环境控制”的复合属性。

根据QYResearch最新调研报告显示，预计2032年全球光刻机超精密光学系统市场规模将达到86.3亿美元，未来几年年复合增长率CAGR为7.3%。

光刻机超精密光学系统，全球市场总体规模

来源：QYResearch机械及设备研究中心

全球光刻机超精密光学系统市场前3强生产商排名及市场占有