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纳米技术与产业应用手册（执行版）

纳米材料制备工艺与质量控制

第1章纳米材料制备工艺与质量控制

第一节气相沉积法在纳米粉体制造中的应用

气相沉积法（VaporPhaseDeposition,VPD）是利用高温或等离子体源使气态前驱体在基体表面发生化学反应并沉积形成纳米结构的一种关键技术，其核心优势在于能够实现原子级精度的厚度控制及均匀性。在制备纳米氧化锌（ZnO）薄膜时，通常采用磁控溅射源配合高温等离子体辅助，将气态的锌源与氧源混合，通过控制反应温度在400-500°C区间，使ZnO纳米晶在基底上快速生长，从而获得厚度小于10nm的均匀薄膜。

对于纳米碳管