CN119753610A 一种基于物理气相沉积技术的镀膜治具及工艺 (昆山英利悦电子有限公司).pdfVIP

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  • 2026-06-04 发布于重庆
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CN119753610A 一种基于物理气相沉积技术的镀膜治具及工艺 (昆山英利悦电子有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119753610A

(43)申请公布日2025.04.04

(21)申请号202411956085.0

(22)申请日2024.12.28

(71)申请人昆山英利悦电子有限公司

地址215300江苏省苏州市昆山市玉山镇

山淞路297号8号房

(72)发明人贾建国

(74)专利代理机构北京维正专利代理有限公司

11508

专利代理师刘国庆

(51)Int.Cl.

C23C14/50(2006.01)

C23C14/34(2006.01)

C23C14/54(2006.01)

权利要求书2页说明书

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